ASML, największy producent sprzętu używanego do produkcji półprzewodników, poinformował w poniedziałek, że wraz z belgijską firmą badawczą Imec otworzył laboratorium testowe dla swojego sprzętu litograficznego High NA EUV.
Nowe narzędzie pozwala uzyskać nawet o 60% lepszą rozdzielczość i oczekuje się, że doprowadzi do powstania nowych generacji mniejszych i szybszych chipów. ASML powtórzył w poniedziałek, że spodziewa się, że klienci rozpoczną komercyjną produkcję tego narzędzia w latach 2025–2026.
Laboratorium w Veldhoven w Holandii, tworzone od lat, da wiodącym producentom chipów oraz innym firmom dostarczającym sprzęt i materiały szansę na pracę z pierwszym w swoim rodzaju narzędziem o wartości 350 milionów euro (380 milionów dolarów).
Spośród producentów chipów jedynie TSMC, Intel i specjaliści od pamięci SK Hynix i Samsung są w stanie produkować przy użyciu obecnej generacji maszyn ASML pracujących w ekstremalnym ultrafiolecie lub EUV.
ASML dominuje na rynku sprzętu do litografii, która jest głównym etapem procesu wytwarzania chipów, w którym wiązki światła są wykorzystywane do tworzenia obwodów chipów.
Do tej pory producent wysłał tylko jedną maszynę testową do firmy Intel w Stanach Zjednoczonych, która planuje wykorzystać to narzędzie w procesie 14A w 2025 r.
ASML ma zamówienia na kilkanaście egzemplarzy narzędzia, chociaż TSMC, największy klient sprzętu EUV, stwierdził, że nie musi używać narzędzi High NA do swoich chipów A16, które mają wejść do produkcji w 2025 roku.
