Firma ASML ogłosiła na konferencji ITF World 2024 organizowanej przez imec, że ustanowiła nowy rekord gęstości produkcji chipów dzięki swojej pierwszej maszynie High-NA, przekraczając rekord ustanowiony zaledwie dwa miesiące temu.
Były prezes i CTO ASML, Martin van den Brink, który obecnie pełni rolę doradczą w firmie, zaproponował również, że firma może opracować narzędzie do produkcji chipów Hyper-NA, aby zapewnić dalsze skalowanie poza maszyną High-NA i podzielił się potencjalnymi planami działania.
Ponadto nakreślił plan obniżenia kosztów produkcji chipów EUV poprzez radykalne zwiększenie prędkości przyszłych narzędzi ASML od 400 do 500 wafli na godzinę (wph), czyli ponad dwukrotnie więcej niż obecny szczyt wynoszący 200 wph. Zaproponował również modułowy projekt unifikujący dla przyszłych rodzin narzędzi EUV firmy.
Van der Brink powiedział, że po dalszym dostrojeniu firma ASML wydrukowała obecnie ścieżki o gęstości 8 nm za pomocą swojej maszyny High-NA EUV — to rekord gęstości jak na maszynę zaprojektowaną do środowisk produkcyjnych. Tym samym firma pobiła swój własny rekord, który został ustanowiony na początku kwietnia, kiedy ogłosiła, że wydrukowała ścieżki o grubości 10 nm.
„Dzisiaj poczyniliśmy postępy do tego stopnia, że jesteśmy w stanie pokazać rekordowe obrazowanie do 8 nm, które jest korygowane w całym polu, ale także ma pewien poziom nakładki – powiedział Van der Brink. – Nawiasem mówiąc, nie są to idealne dane, ale po prostu pokazują postęp. Jesteśmy dziś przekonani, że w miejscu, w którym jesteśmy z High-NA, będziemy w stanie przekroczyć linię mety w nadchodzącym czasie”.
Rekord ten stanowi kulminację ponad 10 lat prac badawczo-rozwojowych i miliardów euro inwestycji, ale pozostaje jeszcze wiele do zrobienia, aby zoptymalizować system i przygotować technologię do masowej produkcji u głównych producentów chipów. Prace te już trwają w Holandii, podczas gdy Intel, jedyny producent chipów, o którym wiadomo, że ma już w pełni zmontowany system High-NA, podąża ściśle śladami ASML, wprowadzając własną maszynę do pracy w fabryce D1X w Oregonie. Intel wykorzysta swoją maszynę EXE:5200 High-NA najpierw do celów badawczo-rozwojowych, a następnie wprowadzi ją do produkcji w swoim węźle 14A.
Van der Brink ponownie zaproponował również nową maszynę Hyper-NA EUV, ale nie podjęto ostatecznej decyzji w jej sprawie – wygląda na to, że ASML bada zainteresowanie branży, ale tylko czas pokaże, czy dojdzie ona do skutku.
