Sprzęt o nazwie Acrevia służy do kształtowania lokalnych obszarów płytki za pomocą wiązek jonowych. Tokyo Electron wcześniej powiedziało, że sprzęt może być używany do poprawy chropowatości krawędzi linii i defektów wzoru w procesach EUV.
Jak podał The Elec, Samsung testował sprzęt wiązki klastra gazowego (GCB) dostarczony przez producenta sprzętu fabrycznego Tokyo Electron w celu ulepszenia procesu w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV), dowiedział się TheElec.
Samsung spodziewa się, że użycie zestawu pomoże mu obniżyć koszty w zaawansowanych węzłach, podały źródła. Zmniejszy on błędy stochastyczne w przetwarzaniu EUV, więc mniej błędów oznacza niższe koszty, powiedzieli.
Rzecznik Tokyo Electron potwierdził, że jego sprzęt jest testowany przez klienta pod kątem zastosowania w odlewni. Tymczasem na rynku wzorców EUV dominują materiały stosowane, więc nowy zestaw Tokyo Electron stanowi dla nich wyzwanie.
