Strategiczne partnerstwo Samsunga i ASML rozpoczęło się od wizyty w grudniu ubiegłego roku, kiedy to prezes Yoon Suk Yeol poprowadził delegację do siedziby ASML w Holandii.
Według raportu serwisu BusinessKorea, powołującego się na źródła, Samsung Electronics planuje zmniejszyć zakupy sprzętu litograficznego EUV nowej generacji ASML. Ponadto ich wspólny plan budowy centrum badawczo-rozwojowego w Korei Południowej może również utknąć w martwym punkcie.
Jak doniesiono, Samsung Electronics początkowo planował zakup ponad trzech jednostek kolejnych wersji, EXE:5200, EXE:5400 i EXE:5600, w ciągu najbliższych dziesięciu lat. Jednak firma zdecydowała się teraz wprowadzić tylko EXE:5200 i rozważy wprowadzenie kolejnych wersji w przyszłości.
Decyzja zapadła po tym, jak wiceprezes Jun Young-hyun został mianowany nowym szefem działu DS (Device Solutions) i dokonał przeglądu bieżących projektów i inwestycji.
Podczas wizyty Samsung i ASML podpisały MOU, zgadzając się na wspólną inwestycję około 1 biliona KRW (około 7,6 miliarda USD) w celu utworzenia fabryki badawczej w Korei Południowej. Jednakże decyzja Samsunga o ograniczeniu wprowadzania sprzętu całkowicie wstrzymała powiązany proces. Pozostaje pytanie, czy wspólne centrum badawcze zostanie utworzone w innym miejscu, czy też sam projekt zostanie anulowany, w oczekiwaniu na przyszłe dyskusje.
Kyung Kye-hyun, który był wówczas szefem działu DS, a obecnie kieruje zespołem Future Business Planning Team i SAIT (Samsung Advanced Institute of Technology), podkreślił znaczenie nawiązania współpracy poprzez wspólne badania dla High NA EUV. Zauważył, że Samsung ma teraz priorytet techniczny dla „High NA EUV” i wspomniał, że firma uważa, że stworzyła okazję do efektywnego wykorzystania High NA EUV w DRAM lub półprzewodnikach logicznych w perspektywie długoterminowej.
