Firma Canon Inc. ogłosiła dostarczenie do Texas Institute for Electronics (TIE) swojego urządzenia przeznaczonego do litografii nanodrukowej.
Canon, jako pierwszy na świecie, skomercjalizował system produkcji półprzewodników wykorzystujący technologię NIL, kiedy zaprezentował maszynę o nazwie FPA-1200NZ2C niecały rok temu, 16 października 2023 r.
Sprzęt od Canona ma być tanią alternatywą dla kosztownej fotolitografii ultrafioletowej (EUV) i głębokiego ultrafioletu (DUV) od ASML. Choć oficjalna cena nie została ujawniona podczas premiery, to dyrektor generalny japońskiego przedsiębiorstwa stwierdził, że będzie ona “o jedną cyfrę niższa niż w przypadku maszyn EUV firmy ASML”. Oznaczałoby to naprawdę robiącą wrażenie różnicę, bowiem mówimy tu o porównaniu setek do dziesiątek milionów dolarów.
W odróżnieniu od konwencjonalnego sprzętu do fotolitografii, który przenosi wzór obwodu poprzez rzutowanie go na wafel pokryty rezystorem, nowy produkt robi to poprzez wciśnięcie maski z nadrukowanym wzorem obwodu w rezystor niczym stempel.
TIE to konsorcjum półprzewodnikowe, które zostało założone w 2021 roku i jest wspierane przez Uniwersytet Teksański w Austin. W jego skład wchodzą władze stanowe i lokalne, firmy półprzewodnikowe, krajowe instytucje badawcze i inne podmioty. TIE zapewnia otwarty dostęp do inicjatyw badawczo-rozwojowych w zakresie półprzewodników.
Canon zapowiedział, że ma planach dalszą promocję badań i rozwoju z wykorzystaniem systemów litografii nanoimprint, aby przyczynić się do rozwoju technologii produkcji półprzewodników.
