ASML, jedyny na świecie dostawca systemów litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV) niezbędnych do produkcji najbardziej zaawansowanych chipów, ujawnił swoją mapę drogową, która ma na celu jeszcze większe skalowanie półprzewodników.
W niedawnej prezentacji były prezes ASML, Martin van den Brink, ogłosił plany firmy dotyczące nowej technologii EUV “Hyper-NA”, która zastąpiłaby systemy High-NA EUV, które dopiero zaczynają być wdrażane.
Narzędzia Hyper-NA, będące wciąż na wczesnym etapie badań, zwiększyłyby aperturę numeryczną do 0,75 z 0,55 w przypadku High-NA, umożliwiając tworzenie układów o gęstości tranzystorów przekraczającej przewidywane limity High-NA na początku lat trzydziestych XXI wieku. Ta wyższa apertura numeryczna powinna zmniejszyć zależność od technik wielowzorcowych, które zwiększają złożoność i koszty.
Hyper-NA stawia przed komercjalizacją własne wyzwania. Kluczowe przeszkody obejmują efekty polaryzacji światła, które pogarszają kontrast obrazowania, wymagając filtrów polaryzacyjnych, które zmniejszają przepustowość światła. Materiały oporowe mogą również wymagać zmniejszenia grubości, aby utrzymać rozdzielczość.
Podczas gdy wiodący producenci chipów EUV, tacy jak TSMC, mogą prawdopodobnie rozszerzyć skalowanie o kilka kolejnych węzłów przy użyciu multi-patterningu z istniejącymi narzędziami EUV 0,33 NA, Intel przyjął 0,55 High-NA, aby uniknąć tych złożoności.
Jednak Hyper-NA prawdopodobnie stanie się niezbędny w całej branży jeszcze w tej dekadzie, gdy fizyczne ograniczenia High-NA zostaną osiągnięte. Poza Hyper-NA, istnieje niewiele alternatywnych rozwiązań wzorcowania poza kosztowną wielowiązkową litografią elektronową, której brakuje przepustowości fotolitografii EUV.
Aby kontynuować klasyczne skalowanie, branża może być zmuszona do przejścia na nowe materiały kanałowe o lepszych właściwościach ruchliwości elektronów w porównaniu do krzemu, co wymaga nowych możliwości osadzania i wytrawiania.
